electrode, serving as a supporting

electrode, serving as a supporting electrode, was thor-oughly polished with 0.05 lm alumina powder on apolishing pad. The electrode was then rinsed with waterand placed in a plating solution consisting of 0.1 Macetate buffer (pH 4.5) and 100 mg l1Bi(III) ions. Apotential of )1.0 V was applied to the working electrodefor 5 min, while the solution was maintained understirring conditions with a magnetic stirrer at 300 rpm.After modification, the electrode was ready to use. MFEwas prepared in a similar manner to BiFE, except thatthe plati ng solution consisted of 0.1 M HCl and 100 mgl1Hg(II) ions, while the deposition time was 8 min at apotential of )0.6 V

Results (Vietnamese) 1:

điện cực, phục vụ như là một điện cực hỗ trợ, là thor-oughly đánh bóng bằng 0,05 lm nhôm bột trên apolishing pad. Các điện cực sau đó rinsed với waterand được đặt trong một dung dịch mạ gồm 0.1 Macetate buffer (pH 4,5) và 100 mg l1Bi(III) ion. Apotential của) 1,0 V được áp dụng cho electrodefor làm việc 5 phút, trong khi giải pháp được duy trì điều kiện understirring với một stirrer từ 300 rpm. Sau khi modification, các điện cực đã sẵn sàng để sử dụng. MFEwas chuẩn bị một cách tương tự như để BiFE, ngoại trừ rằng giải pháp ng plati bao gồm 0.1 M HCl và 100-mgl1Hg(II)-ion, trong khi thời gian lắng đọng là 8 phút tại apotential của) 0,6 V

Results (Vietnamese) 2:

điện, phục vụ như là một điện cực hỗ trợ, là thor-oughly đánh bóng với bột nhôm 0,05 lm trên apolishing pad. Các điện cực sau đó được rửa sạch với waterand đặt trong một dung dịch mạ gồm 0,1 Macetate er bu ff (pH 4.5) và 100 mg l1Bi (III) ion. Apotential của) 1,0 V được áp dụng cho các hoạt động electrodefor 5 phút, trong khi các giải pháp được duy trì điều kiện understirring với một máy khuấy từ 300 rpm.After Modi fi cation, các điện cực đã sẵn sàng để sử dụng. MFEwas chuẩn bị một cách tương tự như BiFE, trừ thatthe giải pháp Plati ng gồm 0,1 M HCl và 100 ion mgl1Hg (II), trong khi thời gian lắng đọng là 8 phút ở apotential của) 0,6 V