s [2]. A typical ALD processoperate

s [2]. A typical ALD process
operates in a sealed reactor chamber, and exposes the substrate
surface to precursor gases in alternate pulses,

Results (Thai) 1:

s [2] ALD กระบวนการทั่วไปทำงานในห้องปิดผนึกเครื่องปฏิกรณ์ และพื้นผิวแสดงให้ก๊าซสารตั้งต้นในกะพริบสลับ

Results (Thai) 2:

S [2] กระบวนการ ALD ปกติ
การดำเนินงานในห้องปฏิกรณ์ปิดผนึกและ exposes พื้นผิว
พื้นผิวที่จะปูชนียบุคคลก๊าซในชีพจรสำรอง

Results (Thai) 3:

s [ 2 ] มีกระบวนการดําเนินงาน ald ทั่วไป
ภายในห้องปฏิกรณ์ปิดผนึก และตีแผ่พื้นผิวพื้นผิว
กับก๊าซ สารตั้งต้นในการกะพริบสลับกัน