A mathematical model of atomic laye

A mathematical model of atomic layer deposition of alumina is developed using a TMA + H2O ALD
operation as a physical base. The model coherently bridges the process dynamics of ALD reactor with
the detailed surface chemical kinetics, where the time-dependent variations of surface species are
modeled during each precursor pulse. The model is validated by the experimental data. Upon the
validation, continuous ALD cycling operation is simulated under different operating conditions. Results
show that temperature rising can reduce the surface reaction time in two half cycles, and meanwhile
intensify the desorption rate of precursors and backward surface reactions. Suitably increasing the
system pressure can improve the completion of surface reactions and film formation in the cycling.
The sensitivity analysis shows that surface species variations of |–OH, |–Al(CH3)2 and |–Al(CH3)2 have
different degree of sensitivities to the surface reaction steps, and reveals the rate-limiting steps in two
precursor treatment cycles.

Results (Thai) 2:

แบบจำลองทางคณิตศาสตร์ของการสะสมชั้นอะตอมของอลูมิเนียมได้รับการพัฒนาโดยใช้ ALD TMA H2O +
การดำเนินงานเป็นฐานทางกายภาพ รูปแบบเป็นตุเป็นตะสะพานพลศาสตร์กระบวนการของเครื่องปฏิกรณ์ ALD ที่มี
รายละเอียดพื้นผิวจลนพลศาสตร์เคมีที่แตกต่างกันขึ้นกับเวลาของชนิดพื้นผิวที่มี
รูปแบบในแต่ละชีพจรปูชนียบุคคล รูปแบบจะถูกตรวจสอบโดยการทดลอง เมื่อ
ตรวจสอบการดำเนินงาน ALD ขี่จักรยานอย่างต่อเนื่องมีการจำลองภายใต้สภาพการใช้งานที่แตกต่างกัน ผลการ
ศึกษาพบว่าอุณหภูมิที่เพิ่มขึ้นสามารถลดเวลาตอบสนองพื้นผิวในสองรอบครึ่งและในขณะเดียวกัน
อัตราการดูดซับมากขึ้นของสารตั้งต้นและปฏิกิริยาย้อนหลังพื้นผิว เหมาะสมการเพิ่ม
ความดันระบบสามารถปรับปรุงความสมบูรณ์ของปฏิกิริยาพื้นผิวและการสร้างภาพยนตร์ในการขี่จักรยาน
การวิเคราะห์ความไวแสดงให้เห็นว่าสายพันธุ์พื้นผิวรูปแบบของ | -OH, | -Al (CH3) 2 และ | -Al (CH3) 2 มี
ระดับที่แตกต่างกัน ของความไวต่อปฏิกิริยาขั้นตอนพื้นผิวและเผยให้เห็นขั้นตอนการ จำกัด อัตราในสอง
รอบการรักษาปูชนียบุคคล

Results (Thai) 3:

แบบจำลองทางคณิตศาสตร์ของการสะสมชั้นอะตอมของอลูมินาถูกพัฒนาขึ้นโดยใช้ TMA H2O ald
ปฏิบัติการเป็นฐานทางกายภาพ แบบติดแน่นสะพานกระบวนการพลวัตของเครื่องปฏิกรณ์ ald กับ
รายละเอียดพื้นผิวทางเคมี จลนศาสตร์ ซึ่งการเปลี่ยนแปลงเวลาของสปีชีส์บนพื้นผิวเป็นแบบตั้งต้น
ในแต่ละจังหวะ รูปแบบการตรวจสอบโดยการทดลอง บน
การตรวจสอบงานจักรยาน ald อย่างต่อเนื่อง ) ภายใต้เงื่อนไขที่แตกต่างกัน . ผลลัพธ์
แสดงว่าอุณหภูมิสูงขึ้นสามารถลดเวลาปฏิกิริยาในพื้นผิวสองครึ่ง รอบ และในขณะเดียวกัน
กระชับการคายสารตั้งต้นและอัตราของปฏิกิริยาบนพื้นผิวด้านหลัง สามารถเพิ่ม
แรงดันระบบสามารถปรับปรุงความสมบูรณ์ของปฏิกิริยาและการสร้างผิวฟิล์มในจักรยาน .
การวิเคราะห์ความอ่อนไหว พบว่า รูปแบบของพื้นผิวชนิด | –โอ้ | –อัล ( CH3 ) 2 และ | –อัล ( CH3 ) 2
ระดับที่แตกต่างกันของความไวต่อพื้นผิวปฏิกิริยาขั้นตอน และพบอัตราการขั้นตอนในการรักษาสารรอบสอง

.