Since KPn is a process parameter, w

Since KP
n is a process parameter, we might think that as CMOS scales downwards (C'ox
goes up) the mismatch due to oxide variations and mobility differences might get better.
However, there is less averaging of these variations with the smaller layout sizes.
Practically, as we're about to see, differences in VDS dominate the matching behavior

Results (Vietnamese) 1:

Kể từ khi KPn là một tham số quá trình, chúng tôi có thể nghĩ rằng như CMOS quy mô xuống (C'oxđi lên) không phù hợp do ôxít biến thể và tính di động khác biệt có thể nhận được tốt hơn.Tuy nhiên, đó là ít hơn trung bình của các biến thể với kích thước bố trí nhỏ hơn.Thực tế, như chúng tôi đang về để xem, sự khác biệt trong VDS thống trị hành vi phù hợp

Results (Vietnamese) 2:

Kể từ KP
n là một tham số quá trình, chúng ta có thể nghĩ rằng như CMOS quy mô xuống dưới (C'ox
đi lên) không phù hợp do các biến đổi oxit và sự khác biệt di động có thể được tốt hơn.
Tuy nhiên, sẽ có ít giá trị trung bình của các biến thể với các kích thước bố trí nhỏ hơn .
Thực tế, khi chúng tôi đang về để xem, sự khác biệt trong VDS thống trị hành vi phù hợp